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現在、電子線を用いた、高分解能分析機器、半導体露光装置、さらには、極小領域の加工を必要とする産業機器等には、電子流密度が高く、単色光で干渉性が高く、長時間安定性のある、熱陰極型電界放射型電子銃（TFEG）が必要とされています。
このFEG用高電圧電源の開発・安定化は、現実として、かなり困難を極める内容ではありますが、当社技術者の長年の経験をもとに、市場に即応できる高性能な加速電圧DC50kVﾀｲﾌﾟFEG用高電圧電源 「VRF-5000」を開発いたしました。
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今回、開発したFEG用高電圧電源は、高安定・低ノイズはもちろんのこと、電圧軸調整用の加速電圧ウォブリング機能を搭載しているので、一歩抜き出た高分解能の分析・露光が可能となっております。更に、納入時には、最高の性能が発揮できるように、装置と高電圧電源のマッチングを行います。また、TFEG本体に関しては、ご要望があれば、その装置にジャストフィットしたTFEGの設計・開発も併せて、お受けいたします。尚、機能としては、冷陰極型電界放射型電子銃（CFEG）にも対応可能です。
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■ DC50kV-FEG高電圧電源仕様
【１】 絶縁方式：ガス絶縁（SF6）≒大気圧
【２】 定格
項目 |
設定範囲 |
最小ステップ |
安定度 |
備考 |
| 加速電圧 |
〜50kV |
0.2kV |
5×10-6 |
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| 引出し電圧 |
0〜8kV |
2V |
1×10-5 |
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| サプレッサー電圧 |
0〜-500V |
2V |
1×10-5 |
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| エミッター加熱電流 |
0〜4A |
1mA |
1×10-5 |
定電流回路 |
| エミッション電流モニター |
0〜409.5μA |
0.1μA |
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| エミッター加熱電流モニター |
0〜4.095A |
1mA |
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【３】 その他仕様
1.コントロール：Windows2000対応GUI
2. 大きさ[mm]：440(W)×440(L)×500(H)
3. 機能：加速電圧ウォブリング、マニュアルコントロール
【４】対象機器
・ 電子顕微鏡
・ 高分解能分析装置（EPMA等）
・ 半導体露光・検査装置（FIB等）
・ 極小加工装置
・ その他、TFEG・CFEG使用装置
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